據《日本經濟新聞》報道，日本半導體制造企業Rapidus將迎來重要時刻，其購入的首臺ASML EUV光刻機預計于2024年底抵達北海道新千歲機場。此舉標志著日本將首次擁有EUV光刻設備，對日本半導體產業發展具有里程碑意義。
Rapidus高管透露，此次購入的EUV光刻機為0.33 NA型號，雖非最新款的0.55 NA（High NA）型號，但仍是當前先進技術的代表。為確保這臺高精度設備安全運輸，新千歲機場特地對相關路面進行了重新鋪設，以減少振動對設備的影響。
ASML已在千歲市設立客戶服務中心，以支持該設備的接收和后續服務工作。這一舉措顯示出ASML對日本市場的高度重視，同時也為Rapidus的先進制程技術發展提供了有力保障。
按照Rapidus的規劃，公司計劃在2025年4月啟動先進制程原型線，該產線將配備包括這臺EUV光刻機在內的200余臺設備。目前，Rapidus的IIM-1晶圓廠建設進展順利，已完成63%的施工進度。
▲ IIM-1晶圓廠概念圖
除Rapidus外，日本還有其他晶圓廠計劃引入EUV光刻技術。美光廣島工廠預計將在2025年內導入EUV設備，為2026年的1-gamma制程DRAM內存量產做準備。同時，臺積電控股子公司JASM也預定在2027年投產的晶圓廠中引入EUV技術，以支持其6nm產線的生產。
隨著EUV光刻技術的引入，日本半導體產業將迎來新的發展機遇。這些先進設備的投入使用將進一步提升日本在全球半導體市場的競爭力，推動日本半導體產業邁向新的高度。
