據ETNews消息，三星已經將韓國本土公司研發(fā)的EUV光刻膠(EUV PR)，用于一條半導體工藝線生產。
據悉，在日本限制出口EUV光刻膠后，韓國的東進世美肯公司就開始研發(fā)EUV光刻膠，并在去年通過了三星電子的可靠性認證，在不到一年的時間里，就將其應用到生產線。
不過，一條生產線僅是三星整個產品線中的一小部分，但是這是完全不依賴進口產品的生產線，因此具有特殊的意義。
由于需要考慮海外供應商之間的關系，目前尚不清楚三星是否會將東進世美肯EUV光刻膠用于更多的生產線。
據了解，光刻膠是半導體曝光工藝中的關鍵材料，它應用于芯片生產上。
當用半導體曝光設備照射光時，會發(fā)生化學反應并改變物理性質，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路，只留下必要的部分。
