近日，《日經(jīng)亞洲》發(fā)布報(bào)道，揭示了ASML公司在日本半導(dǎo)體制造業(yè)布局的最新動向。隨著日本半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的持續(xù)擴(kuò)展，以及對先進(jìn)光刻機(jī)需求的不斷增長，ASML計(jì)劃在未來幾年內(nèi)大幅擴(kuò)大其在日本的維護(hù)團(tuán)隊(duì)規(guī)模。

據(jù)悉，ASML駐日本的維護(hù)團(tuán)隊(duì)規(guī)模有望在現(xiàn)有基礎(chǔ)上增至五倍，預(yù)計(jì)到2027年將達(dá)到100人。這一舉措旨在更好地滿足日本客戶對光刻機(jī)維護(hù)和技術(shù)支持的需求，進(jìn)一步提升ASML在日本市場的服務(wù)響應(yīng)速度和效率。

報(bào)道指出，日本境內(nèi)至少有三個(gè)重要項(xiàng)目即將引入ASML提供的EUV光刻設(shè)備。其中包括Rapidus位于北海道千歲市的IIM晶圓廠，該廠將采用2nm邏輯工藝；美光在廣島的內(nèi)存生產(chǎn)線，計(jì)劃采用1-gamma DRAM技術(shù)；以及臺積電日本子公司JASM的二期晶圓廠，專注于6/7nm邏輯工藝。

若考慮DUV光刻機(jī)的應(yīng)用，ASML在日本市場的設(shè)備持有量將進(jìn)一步增加。為了更有效地支持這些客戶，ASML決定擴(kuò)大其在日本的本地支持團(tuán)隊(duì)。這一舉措將幫助ASML在日本客戶提出需求時(shí)能夠迅速響應(yīng)，及時(shí)處置問題，從而最大限度地減少停機(jī)時(shí)間，降低客戶的損失。

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展和競爭的日益激烈，ASML的這一戰(zhàn)略調(diào)整無疑將為其在日本市場的業(yè)務(wù)拓展提供有力支持。同時(shí)，這也將進(jìn)一步鞏固ASML在全球光刻機(jī)市場的領(lǐng)先地位。