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蘋果新專利:屏下Face ID技術(shù),iPhone劉海或?qū)⑾В?/h1>
   發(fā)布時間:2025-01-16 12:21 作者:趙云飛

近日,科技媒體patentlyapple披露了一項令人矚目的消息,蘋果公司成功獲得了一項新技術(shù)專利,該專利的核心在于將Face ID組件巧妙地隱藏于屏幕之下,為用戶帶來更加簡潔和一體化的使用體驗。

Face ID技術(shù)以其高精度和便捷性著稱,通過深感攝像頭投射并分析大量點陣,實現(xiàn)對人臉數(shù)據(jù)的精確捕捉。然而,由于技術(shù)限制,當(dāng)前Face ID系統(tǒng)中的關(guān)鍵組件,如紅外攝像頭和點陣投影器等,尚無法完全融入屏幕下方。因此,蘋果不得不采用所謂的“藥丸屏”設(shè)計作為折衷方案。

據(jù)悉,這項新專利不僅涵蓋了iPhone,還擴展到了MacBook、iMac、智能眼鏡以及Apple Watch等多種電子設(shè)備。專利描述了一種創(chuàng)新方法,旨在將光學(xué)傳感器巧妙地置于屏幕下方。為實現(xiàn)這一目標,專利提出了一種“像素移除區(qū)域”的設(shè)計,該區(qū)域與傳感器部分重疊,并通過多種方案優(yōu)化光線透過率。

具體而言,專利提出了移除像素移除區(qū)域中50%或10%-90%子像素的方案,以提升光線傳輸效率。同時,專利還深入探討了觸控傳感器網(wǎng)格在像素移除區(qū)域的布局方式,包括完全保留、完全移除或部分移除等策略,以平衡觸控靈敏度和光學(xué)傳感器的性能。

專利還涉及對覆蓋層的處理,包括基板保護層、柵極電介質(zhì)層、無機鈍化層或有機像素定義層的選擇性圖案化處理,以進一步優(yōu)化傳感器的性能和集成度。

這一專利的公布,標志著蘋果在屏幕下Face ID技術(shù)方面取得了重要進展。盡管目前尚不清楚這項技術(shù)何時能夠應(yīng)用于實際產(chǎn)品,但無疑為未來的蘋果設(shè)備設(shè)計提供了更多可能性。

 
 
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