武漢東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)管理委員會（中國光谷）傳來振奮人心的消息，光谷企業(yè)在半導體專用光刻膠領(lǐng)域取得了重大突破。武漢太紫微光電科技有限公司（簡稱“太紫微公司”）自主研發(fā)的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已成功通過半導體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)了配方全自主設計，有望改寫國內(nèi)半導體光刻制造的格局。

據(jù)中國光谷官方介紹，T150 A光刻膠產(chǎn)品與國際頭部企業(yè)主流的KrF光刻膠系列相當，尤其在極限分辨率上達到了120nm，相較于國外同系列“妖膠”UV1610，T150 A展現(xiàn)出更大的工藝寬容度、更高的穩(wěn)定性以及優(yōu)異的堅膜后烘留膜率，對后道刻蝕工藝更為友好。驗證結(jié)果顯示，T150 A在密集圖形刻蝕后，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)尤為出色。

公開資料顯示，太紫微公司成立于2024年5月，是由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創(chuàng)立的新興企業(yè)。公司企業(yè)負責人朱明強教授，同時也是英國皇家化學會會員，他表示：“從原材料的開發(fā)起步，到最終獲得具有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是我們的初步成果。未來，我們的團隊還將研發(fā)一系列適用于不同場景的KrF與ArF光刻膠，為國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來更多創(chuàng)新與突破。”