近期,碳化硅(SiC)材料領域迎來了一項重要技術突破。西湖儀器(杭州)技術有限公司宣布,其已成功研發出針對12英寸碳化硅襯底的激光剝離自動化解決方案,這一創新成果為碳化硅行業的成本控制與效率提升開辟了新路徑。
回顧去年11月,天岳先進公司曾率先推出了業界首款300毫米的N型碳化硅襯底。這一大尺寸襯底的推出,不僅顯著擴大了單個晶圓上可用于芯片制造的有效面積,還有效降低了邊緣損失的比例。然而,隨著襯底尺寸的增大,對12英寸及以上超大尺寸碳化硅襯底切片技術的需求也愈發迫切。
針對這一挑戰,西湖儀器憑借其在納米光子學與儀器技術領域的深厚積累,成功開發出了全新的自動化解決方案。該方案覆蓋了晶錠減薄、激光加工以及襯底剝離等多個關鍵環節,實現了全程自動化操作。
尤為在激光剝離過程中,西湖儀器的技術實現了零材料損耗。僅在后續的減薄工序中,才需要對襯底的上下表面進行微量去除,去除厚度僅為80-100微米。這一技術不僅大幅降低了原料損耗率,還有效縮短了襯底的出片時間。
西湖儀器(杭州)技術有限公司成立于2021年底,是一家集研發、生產和銷售于一體的專業化儀器設備公司。其創始團隊源自西湖大學納米光子學與儀器技術實驗室,擁有豐富的科研背景和行業經驗。
此次西湖儀器的技術突破,不僅展現了其在碳化硅材料加工領域的深厚實力,更為整個碳化硅行業的發展注入了新的活力。隨著這一技術的逐步推廣和應用,碳化硅材料的生產效率將進一步提升,成本也將得到有效控制。
西湖儀器的這一創新成果,也為國內碳化硅產業的發展樹立了新的標桿。隨著更多企業的加入和技術的不斷突破,中國碳化硅產業將迎來更加廣闊的發展前景。