【智快網】3月19日消息，NVIDIA近日宣布與TSMC和Synopsys展開合作，共同推動下一代半導體芯片的制造速度，并克服物理限制。這一合作將采用NVIDIA的計算光刻平臺cuLitho，以加快芯片制造流程，并對未來最新一代NVIDIA Blackwell架構GPU提供支持。

據智快網了解，全球領先的晶圓代工廠TSMC與硅片到系統設計解決方案領域的佼佼者Synopsys，已經將NVIDIA的cuLitho技術集成到其軟件、制造工藝和系統中。這一舉措不僅提升了芯片制造的速度，同時也為半導體微縮技術開辟了新的方向。NVIDIA創始人兼首席執行官黃仁勛表示：“計算光刻技術是芯片制造的基石，我們與TSMC和Synopsys的合作將通過加速計算和生成式AI為半導體行業帶來重大突破。”

此外，NVIDIA還推出了全新的生成式AI算法，以增強其GPU加速計算光刻軟件庫cuLitho的性能。與當前基于CPU的方法相比，這一新方法在半導體制造工藝上實現了大幅改進。計算光刻作為半導體制造中高度計算密集型的工作負載，每年需要耗費大量的CPU計算時間。而借助NVIDIA的加速計算技術，現在可以使用更少的H100系統取代大量的CPU系統，從而在提高生產速度的同時降低成本、空間要求和功耗。

TSMC首席執行官魏哲家博士表示：“通過與NVIDIA的合作，我們將GPU加速計算整合到TSMC的工作流中，實現了性能的大幅提升、吞吐量的增加、周期時間的縮短以及功耗的降低。我們正在將NVIDIA cuLitho投入到生產中，利用這項計算光刻技術推動半導體微縮環節的發展。”自去年推出以來，cuLitho已經為TSMC的創新圖案化技術帶來了新的機遇，并在共享工作流上進行的測試中展示了顯著的性能提升。

Synopsys總裁兼首席執行官Sassine Ghazi也表示：“二十多年來，Synopsys的Proteus光掩模合成軟件產品一直是經過生產驗證的首選加速計算光刻技術。然而，隨著制造工藝的不斷進步，計算光刻的復雜性和計算成本都在急劇增加。通過與TSMC和NVIDIA的合作，我們開創了能夠運用加速計算的力量將周轉時間縮短若干數量級的先進技術。這對于實現埃米級微縮至關重要，并將為芯片制造工藝帶來變革。”借助Proteus光掩模合成產品以及NVIDIA cuLitho軟件庫的支持，制造商可以在鄰近效應矯正、構建校正模型以及分析集成電路布局圖案的鄰近效應方面實現出色的精度、效率和速度。

NVIDIA還開發了適用于計算光刻技術的開創性生成式AI支持。這一全新生成式AI工作流在cuLitho加快流程速度的基礎上進一步提升了性能，使整個光學鄰近效應校正(OPC)流程加快兩倍。通過應用生成式AI創建出近乎完美的反向光掩模或反向解決方案來解決光的衍射問題，然后再通過傳統的嚴格物理方法推導出最終的光掩模。這將有助于緩解晶圓廠工藝變化所帶來的計算量增加和開發周期瓶頸問題，降低成本和瓶頸壓力，并為晶圓廠在開發2納米及更先進技術時提供更多創新解決方案的可能性。